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VTC-600GD高真空磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-05-08
  • 訪  問  量:484

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產地類別國產應用領域綜合

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VTC-600GD 高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀最多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。IMG_257

 

·最多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。

·可制備多種薄膜,應用廣泛。

·體積小,操作簡便。

·整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。

·可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。IMG_258

產品名稱

VTC-600GD高真空磁控濺射儀

產品型號

VTC-600GD

安裝條件

本設備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數

1、電源電壓:220V  50Hz
2、總功率:<3.5KW
3、腔體內徑:Ø300mm
4、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到?E-5mbar)
5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
6、靶槍數量:4個
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W(可選)
10、射頻濺射功率:300W
11、載樣臺:Ø140mm
12、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
13、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體
14、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,1個流量為100 SCCM,1個流量為200 SCCM

15、產品規(guī)格:
·尺寸:
主機尺寸:850mm×760mm×660mm,
整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
·重量:190kg

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IMG_261

序號

名稱

數量

圖片鏈接

1

直流電源控制系統

(可選)套

-

2

射頻電源控制系統

1套

-

3

膜厚監(jiān)測儀系統

1套

-

4

分子泵(德國進口或者國產更大抽速)

1臺

-

5

冷水機

1臺

-

6

聚酯PU管(Ø6mm)

4m

-


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序號

名稱

功能類別

圖片鏈接

1

金、銦、銀、鉑等各種靶材

(可選)

-

2

可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。

(可選)

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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