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VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-05-08
  • 訪  問  量:705

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

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VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。IMG_257

1、一個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺正下方,脆性靶材安裝更方便,樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
4、體積小,操作簡便。
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產(chǎn)品名稱

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-16-1HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數(shù)

1、電源電壓:220v  50Hz
2、功率:900W
3、腔體內(nèi)徑:φ164mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(根據(jù)實際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:1個(在真空室下方)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:φ2〞,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、樣品臺:φ86mm
10、樣品臺:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。
11、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。
12、開關(guān)蓋方式:自動升降上蓋。
13、工作氣體:Ar等惰性氣體。
進氣氣路:質(zhì)量流量計進氣,1-100SCCM可調(diào)。

產(chǎn)品規(guī)格

14、產(chǎn)品規(guī)格:
·尺寸:
主機尺寸:750mm×450mm×1020mm
真空室規(guī)格:φ164×172mm
·重量:100kg

標準配件

1直流電源控制系統(tǒng)1套
2射頻電源控制系統(tǒng)1套
3分子泵(德國進口或者國產(chǎn)更大抽速)1臺
4冷水機1臺
5冷卻水管(Ø6mm)2根

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚檢測系統(tǒng)。

 

 

 

 

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