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簡要描述:開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空度可達10-2torr。
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細介紹
產(chǎn)品型號 | 開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV |
主要特點 | 1、雙層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。 2、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。 3、采用PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。 5、已通過CE認證。 |
技術參數(shù) | 1、電源:AC 220V 50/60Hz 2.5KW 2、石英管:外徑Φ80mm,內(nèi)徑Φ75mm,長1000mm 3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 4、加熱區(qū)域:440mm 5、恒溫區(qū)域:150mm 6、工作溫度:zui高1200℃,連續(xù)工作1100℃ 7、zui大升降溫速率:20℃/min 8、控溫精度:±1℃ 9、真空度:5.5×10-3torr(機械泵),10-4torr(分子泵) 10、泄漏率:<5mtorr/min 11、浮子流量計:3個;10-100ml/min,16-160ml/min,25-250ml/min 12、壓力表:4個 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,混氣系統(tǒng)600mm×600mm×597mm;重量:60kg |
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