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簡要描述:快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火而設計,配有3路流量計和機械泵。本機采用 9KW的紅外燈進行加熱,Z快升溫速度可達 100℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細介紹
產(chǎn)品型號 | 快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV |
主要特點 | 1、雙層Al2O3纖維鋼構,無需水冷或風冷。 2、內(nèi)爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。 3、PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。 4、已通過CE認證。 |
技術參數(shù) | 1、電源:單相208-240V AC 50/60Hz 9KW 2、石英管:外徑Φ110mm,內(nèi)徑Φ103mm,長380mm 3、加熱元件:紅外燈管,直徑Φ10mm,長300mm 4、加熱區(qū):300mm 5、工作溫度:zui高溫度1100℃ 6、控溫精度:±0.5℃ 7、zui高升溫速度:RT-800℃時為50℃/s,800℃-1000℃時為10℃/s 8、溫控儀:可控硅(SCR)PID自動控制 9、真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水 冷,循環(huán)水流量為0.5m3/hr 10、真空度:10-3torr 11、流量計:3個,量程40-400cc/min,精度4%FS |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統(tǒng)600mm×600mm×597mm 重量:爐體45kg,真空混氣系統(tǒng)30kg |
可選配件 | 防腐型數(shù)字真空計 |
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