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VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統(tǒng)配置三個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源通過(guò)轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)可以分別連接至任一靶頭，用于各類(lèi)靶材的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)

VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī)主要應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。

小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾，通過(guò)濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成核殼結(jié)構(gòu)。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。（更新日期2019.1.10）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會(huì)因鍍膜溫度過(guò)高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，可以使樣品邊旋轉(zhuǎn)邊鍍膜，使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設(shè)備外形小巧，性?xún)r(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。VTC-16-SM小型高能

鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可設(shè)定程序，并精確控制溫度200ºC-1500ºC（或者1200ºC-1700ºC），Z大可蒸鍍直徑2“的薄膜樣品，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜，廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED。