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蒸發(fā)鍍膜儀是利用物理或化學方法將材料從固體或液體狀態(tài)轉化為氣態(tài)，然后在真空環(huán)境中沉積到基片上形成薄膜的設備。這種技術廣泛應用于半導體、光學、電子、磁性材料等領域，用于制備各種功能薄膜。蒸發(fā)鍍膜儀的原理主要包括以下幾個方面：1.真空原理：工作需要在高真空環(huán)境下進行，以減少氣體分子對蒸發(fā)材料的阻礙和對薄膜質(zhì)量的影響。真空環(huán)境可以通過機械泵、分子泵等設備實現(xiàn)。在真空條件下，氣體分子的數(shù)量大大減少，有利于材料的蒸發(fā)和薄膜的生長。2.蒸發(fā)原理：蒸發(fā)是指物質(zhì)從液態(tài)或固態(tài)轉化為氣態(tài)的過程。...

金相拋光機是一種用于金屬材料表面制備的專業(yè)儀器，主要用于金屬材料檢測、研究和分析等方面。它可以通過旋轉砂輪和帶有磨料的拋光液將金屬材料表面磨光，去除其表面粗糙度和劃痕，使其表面平整度更高，從而更方便進行觀察和分析。結構特征概述拋光機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動機固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電動機通過底座上的開關接通電源起動后，便可用手對試樣施加壓力在轉動的拋光盤上進行拋光。拋光過程中加入的拋...

在材料科學、半導體制造、光學器件和生物器械等領域，旋轉涂膜機以其涂覆技術和高精度控制，成為了不可少的工藝設備?；陔x心力作用和精密控制。當機器啟動時，基片(通常為平坦且光滑的目標表面)開始高速旋轉。同時，在基片的中心位置滴加各類膠體或溶液。由于離心力的作用，膠體或溶液在基片上均勻展開，形成一層薄膜。這一過程中，通過調(diào)整旋轉速度、膠體或溶液的粘稠度以及旋涂時間等參數(shù)，可以控制涂層的厚度和均勻性。旋轉涂膜機的主要特點：高精度控制：通過控制系統(tǒng)和傳感器技術，實現(xiàn)對旋轉速度、膠體或溶...

冷等靜壓機在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中起到了重要的作用。通過微米級的高精度操作，它可以制造出各種高精度金屬鑄件、紡織品以及復合材料等高品質(zhì)產(chǎn)品。隨著科技的不斷進步，冷等靜壓機的應用領域?qū)絹碓綇V泛。冷等靜壓機是一種工業(yè)生產(chǎn)中常用的壓縮機，它是通過壓縮機的工作原理，將氣體壓縮成高溫高壓的狀態(tài)，再通過冷卻系統(tǒng)使之冷卻，達到制冷或低溫的效果的一種設備。冷等靜壓機是將裝入密封、彈性模具中的物料，置于盛裝液體或氣體的容器中，用液體或氣體對其施加以一定的壓力，將物料壓制成實體，得到原始形狀的坯體。...

1、新鮮硬組織取材固定(以牙齒為例):根據(jù)材料尺寸/性質(zhì),通過切割機獲得所需樣本,再使用4%多聚甲醛或10%福爾馬林溶液固定至少24小時;2、脫水浸潤:酒精上行脫水:無水乙醇:7200=1:1;無水乙醇:7200=3:7;7200原液I、II;3、樣本包埋光聚合法包埋:7200原液+固體包埋顆粒(12小時);配合真空冷鑲嵌機進行抽真空,放置模具自動灌膠,去除氣泡,修復包埋樣本CXQ-2500真空冷鑲嵌機4、粘接樣本塊至載玻片采用T4000樹脂粘接,并注意液體比例,配合壓合臺確...

大家好，本期我們?yōu)榇蠹規(guī)淼氖恰柑沾苫宓漠愋吻懈睢?，敬請觀看！▼/前情提要/本期沈陽科晶小課堂為您講解陶瓷基板的異形切割！使用設備：STX-100QX金剛石曲線切割機▼/點擊觀看視頻/▼/小結/氧化鋁陶瓷基板切割取圓（直徑10/12.7mm），可編輯任意圖形，并可通過樣品疊層的方式大幅提高加工效率，同時滿足科研和生產(chǎn)兩大要求，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實驗室體驗測試！歡迎后臺區(qū)留言！

/前情提要/本期科晶小課堂為您講解冷等靜壓機粉末成型使用設備：CIP-50MA電動冷等靜壓機/點擊觀看視頻//小結/我公司有多種尺寸的壓片機以及冷等靜壓機，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實驗室體驗測試！歡迎后臺區(qū)留言！沈陽科晶自動化設備有限公司于2000年5月創(chuàng)建。自第一臺SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來，沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設備潮流為目標的發(fā)展歷程。時至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結、分析等領域以及相關耗材的...

實驗設備：MSK-AFA-I流延涂覆機、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱MSK-AFA-I流延涂覆機ZKC-250真空樣品儲藏罐DZF-6020真空干燥箱圖1實驗所用設備圖實驗材料：液態(tài)硅膠、銅箔實驗目的：使用流延涂覆機將液態(tài)硅膠均勻涂覆在銅箔表面，用真空干燥箱在90℃的環(huán)境下將薄膜烘干，而后使用數(shù)顯千分尺測量烘干后薄膜的厚度和均勻性。實驗過程：①原料混合：首先，將液態(tài)硅膠原料按1:1的比例混合好，混合后的液態(tài)硅膠內(nèi)充滿氣泡，將充滿氣泡的液態(tài)硅膠放入到...

【科晶小課堂】電弧熔煉爐制備鈦鋁合金/前情提要/本期科晶小課堂為您講解用電弧熔煉爐制備鈦鋁合金！實驗材料：鈦、鋁使用設備：MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐/點擊觀看視頻//小結/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐制備鈦鋁合金錠可定制不同尺寸、形狀坩堝，最大約200g（鈦)；并可選配吸鑄套件（直徑1～10mm）；真空封管套件（直徑5～30mm）；歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實驗室體驗測試！歡迎后臺區(qū)留言！/相關設備點擊查看/MSM20-7(非自耗)電弧熔煉爐SP-MSM3...

背散射電子衍射（EBSD）只發(fā)生在試樣表層幾十個納米的深度范圍,所以試樣表面的殘余應變層(或稱變形層、擾亂層)、氧化膜以及腐蝕坑等缺陷都會影響甚至*抑制EBSD的發(fā)生,因此試樣表面的制備質(zhì)量很大程度上決定著EBSD測試結果的質(zhì)量。與一般的金相試樣相比，一個合格的EBSD樣品，要求試樣表面無應力層、無氧化層、無連續(xù)的腐蝕坑、表面起伏不能過大、表面清潔無污染。EBSD試樣的典型尺寸是10mm×10mm到7mm×7mm之間,厚度不宜過厚，一般在1-3mm之間?？筛鶕?jù)實際情況，如銅鋅...

實驗材料：尺寸為21×21㎜的陶瓷基片，基片形貌如圖1所示；該種陶瓷基片有一定的硬度，可用真空吸附的方式進行固定。薄膜材料為用有機溶膠調(diào)和的具有一定粘度和流動性的金屬粉末。圖1實驗所用基片圖實驗目的：將金屬粉末膠溶劑均勻涂敷到陶瓷片表面。實驗設備：由沈陽科晶自動化設備有限公司制造的VTC-100真空旋轉涂膜機和PCE-6等離子清洗機。圖2實驗所用設備圖實驗設備選用原因：VTC-100真空旋轉涂膜機操作簡單、清理方便，體積小巧。設備標配3個不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同...

實驗材料：φ65×100㎜的一次性PS（聚苯乙烯系塑料）水杯圖1實驗材料圖實驗目的：將PS水杯切割從中間切開，并觀察切口形貌和切開的杯子變形情況。實驗設備：STX-604金剛石線切割機、MTI-3040加熱平臺STX-604金剛石線切割機MTI-3040加熱平臺圖2實驗所用設備圖實驗耗材：樹脂陶瓷切割襯墊、石蠟棒、切割專用油、金剛石線樹脂陶瓷切割襯墊石蠟棒切割專用油金剛石線圖3實驗所用耗材圖實驗過程：樣品固定：將STX-604金剛石線切割機的載物塊和樹脂陶瓷切割襯墊一同放置到...