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VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述:VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來(lái)回掃動(dòng),同時(shí)配備有去離子水淸洗和氮?dú)獯蹈晒δ?采用高精度伺服電機(jī)控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作,全不銹鋼機(jī)柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計(jì)合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間,自動(dòng)控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2021-12-01
  • 訪  問(wèn)  量:1457

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域地礦

VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來(lái)回掃動(dòng),同時(shí)配備有去離子水淸洗和氮?dú)獯蹈晒δ?采用高精度伺服電機(jī)控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作,全不銹鋼機(jī)柜,耐腐蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計(jì)合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間,自動(dòng)控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。1、不銹鋼半柜式設(shè)計(jì),觸摸屏操作
2、透明觀察窗,帶排廢和抽風(fēng)功能
3、可移動(dòng)式直線導(dǎo)軌清洗,行程可定制
4、最多可配備四路清洗或氮?dú)獯蹈上到y(tǒng)
5、可處理基片尺寸上限為8寸晶圓,向下兼容
6、更大尺寸可定制

產(chǎn)品名稱      
VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)      
VTC-200-CE
主要參數(shù)      
1、旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)范圍:20-10000rpm
2、加速度可調(diào)范圍:0-50000rpm/s
3、標(biāo)配直線導(dǎo)軌行程:100mm;移動(dòng)速度上限:100mm/s
4、標(biāo)配兩路噴液系統(tǒng),扇形或柱形噴嘴可選
5、標(biāo)配10L不銹鋼壓力桶兩只,其它規(guī)格可選
6、清洗液或氮?dú)饧訙叵到y(tǒng)可選配
產(chǎn)品規(guī)格      

尺寸:940mm(長(zhǎng))×800mm(寬)×1100mm(高)



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