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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐,適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進行溫度調(diào)節(jié),可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為± 1℃。
1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S是小型管式爐,Z高工作溫度為1200℃,Z大功率為1200W,可配置直徑為1″ 或2″的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭,設(shè)有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭,允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結(jié)。
1400℃小型管式爐GSL-1400X是小型高溫管式爐,采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件,設(shè)有兩個真密封法蘭,控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制,其控溫精度為±1℃,可設(shè)置30段升降溫程序,Z高溫度可達1400℃。
1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件,采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設(shè)有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)等工藝,特別適合批量生產(chǎn)使用。
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒為加熱元件,采用S型單鉑銠熱電偶測溫和708P溫控儀自動控溫。本機設(shè)有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)等工藝,特別適合批量生產(chǎn)使用。
1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X是小型高溫管式爐,采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件,設(shè)有兩個真密封法蘭,控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制,其控溫精度為±1℃,可設(shè)置30段升降溫程序,Z高溫度可達1500℃。