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清洗設備
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PCE-3等離子清洗機使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染,在射頻電源的作用下,Z大去除速率為10nm/min。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進行預處理,將對生長具有顯著的作用。
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